Retix C Ultra Repair Nano-Mask 1 szt

Dzięki wykorzystaniu technologii nanowłókien tworzących trójwymiarową strukturę biocelulozy zapewnia bardzo wysoką absorbcję i aktywne uwalnianie trzech form kwasu hialuronowego oraz ektoiny- EctoHyal Complex 3.0. Bioceluloza jako materiał wykorzystywany w kosmetologii i medycynie do regeneracji, idealnie przylega do obszaru zabiegowego tworząc efekt drugiej skóry. Składniki aktywne maski koją, redukują zaczerwienienia i nieprzyjemne uczucie ściągnięcia.

WSKAZANIA

• Podrażnienie i zaczerwienienie skóry
• Brak elastyczności i napięcia skóry

SKŁADNIKI AKTYWNE
ECTOHYAL COMPLEX 3.0 to połączenie unikalnych właściwości ektoiny oraz trzech form kwasu hialuronowego dla optymalnego, wielopoziomowego nawilżenia i złagodzenia podrażnień skóry. Ektoina stanowi ochronę przed fotostarzeniem się skóry, ponad to wzmacnia funkcję bariery i wspiera funkcje naprawcze, jest składnikiem o udowodnionym działaniu przeciwstarzeniowym.
BISABOLOL składnik o bardzo silnych właściwościach przeciwzapalnych i łagodzących skórę. Przyspiesza proces gojenia, koi podrażnioną i wrażliwą skórę.
STOSOWANIE
Maskę należy delikatnie wyjąć z opakowania zabezpieczającego, następnie rozłożyć i usunąć niebieską warstwę.
Maskę nałożyć na twarz tak, aby doskonale przylegała do skóry.
Pozostawić na skórze przez około 20 minut, następnie maskę usunąć, a nadmiar produktu wmasować.

POJEMNOŚĆ
1 szt

INFORMACJE DODATKOWE
OSTRZEŻENIA DOTYCZĄCE BEZPIECZEŃSTWA
Nie stosować na uszkodzoną skórę, otwarte rany ani błony śluzowe. Unikać kontaktu z oczami. W przypadku dostania się produktu do oczu, przemyć je dokładnie wodą. W razie wystąpienia podrażnienia, zaprzestać stosowania.

ADRES PRODUCENTA / DYSTRYBUTORA
URGO SAS,
184 Rue de Ravioli
75001 Paryż, Francja
​​​​​​​
URGO Sp. z. o. o.
Aleje Jerozolimskie 142 B,
02-305 Warszawa